中国科学院微电子研究所 - 科研方向
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科研方向
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光掩模及电子束曝光技术服务
      微细加工与纳米技术研究室已经纳入ISO9000/2000质量管理体系。一方面承担国家微细加工技术研究,一方面承接全国微细加工技术服务。主要服务对象是北方基地、科研院所、高等院校及国家实验室和国内中小企业用户。拥有遍及国内五十多个城市、香港、台湾及美国、英国、法国、荷兰、日本、朝鲜、韩国、新加坡、俄罗斯等二百多个国内外用户。为微电子、微光学、微机械、光电子学、磁学以及生物医学和生物化学等高技术微细图形加工领域提供优质技术服务,包括超大规模集成电路、砷化镓场效应等化合物集成电路与器件、CCD器件、真空微电子学器件、太阳能电池等高效光电子学器件、激光器件、微波器件、超导器件、纳米量子学器件、声表面波器件、人工智能传感器、定向器件、敏感器件、超大规模集成磁泡存储器等特种器件;波导器件、二元光学器件等集成光学和微光学器件;微机械加工等微机电系统(MEMS)的制造技术;生物芯片技术、微观激励器、微动泵、微型阀和传感器等典型流体控制元件的生物学微系统制造技术;平面显示技术、液晶显示技术、平面封装技术、位相相移技术、空间滤波技术、波带片应用技术、计算全息编码技术、防伪技术、莫尔技术、定位测量光栅技术和流光溢彩的艺术光栅技术等等。加工尺寸从微米级到深亚微米、百纳米以至纳米级。
拥有设备:
美国GCA 3600F Pattern Generator (图形发生器) 、GCA 3696 Photorepeater (分步重复精缩机) 光学制版系统、日本电子JEOL JBX 6AII 电子束曝光系统和JEOL JBX 5000LS电子束光刻系统及美国应用材料公司ETEC 4700S
1、 提供光学制版技术服务、电子束曝光制版技术服务,光学制版可制作2英寸~7英寸的中间掩模版或工作掩模版。全行程总精度为 0.6微米/150 毫米/21±0.1℃;
2、  电子束曝光制版掩模图形位置精度±0.1微米,中间掩模版上的图形拼接精度小于±0.25微米,掩模图形线宽尺寸精度(CD)可控制为±0.3微米或±0.1微米。可接受GDS II、3600、3000、MEBES4、CIF及JEOL01和JEOL51等数据格式;
3、  提供电子束光刻技术服务及合作开展纳米技术研究;
4、  实验用移相掩模加工技术及光学邻近效应校正图形数据处理技术服务;
5、  微光刻图形数据处理技术服务;
6、  特种制版技术服务。

 
 
 

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